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    激光脈沖沉積裝置報價點擊了解更多「多圖」

    發布時間:2021-01-01 17:53  

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    脈沖激光沉積系統特點及優勢

    可根據客戶需求定制產品,靈活性高,并提供專業的技術支持;靶臺可以安裝6個靶位,靶材更換靈活;樣品臺樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用;進樣室可以存儲多個靶和樣品;交易過程無需繁瑣的進、出關手續, 交貨期短,性價比高;

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    脈沖激光沉積選件介紹

    激光分子束外延(Laser MBE )

    激光MBE 是普遍采用的術語,該法是一種納米尺度薄膜合成的理想方法,高真空下的PLD 與在線工藝監測的反射高能電子衍射(RHEED)的聯合應用,用戶提供了類似于MBE 的薄膜生長的單分子水平控制。

    正確的設計是成功使用RHEED 和PLD 的重要因數

    RHEED 通常在高真空(<10-6 torr)環境下使用。然而,因為在某些特殊情況下,PLD 采用較高的壓力,差動抽氣是必要的,

    維持RHEED 槍的工作壓力,同時保持500 mTorr 的PLD 工藝壓力。同時,設計完整的系統消除磁場對電子束的影響是至關重要的。Neocera 的激光MBE 系統可以為用戶提供在壓力達到500 mTorr 時所需的單分子層控制。

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