磁控濺射機廠家推薦「沈陽鵬程」

線列式磁控生產線

沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產、銷售磁控濺射產品，我們?yōu)槟治鲈摦a品的以下信息。

采用先進的in-line產線結構，Twin-Mag孿生陰極磁控濺射技術，并配以全自動控制系統(tǒng)、先進的真空系統(tǒng)，可在玻璃襯底上鍍制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各類絕緣介質薄膜、金屬或合金薄膜，并可連續(xù)濺鍍多種不同材質的薄膜構成復合多膜層結構，適合大規(guī)模光學、電學薄膜的生產，做到一機多用具有高能效、高可靠性、低成本的優(yōu)勢。所不同的是電場方向，電壓電流大小而已沈陽鵬程真空技術有限責任公司本著多年磁控濺射產品行業(yè)經驗，專注磁控濺射產品研發(fā)定制與生產，先進的磁控濺射產品生產設備和技術，建立了嚴格的產品生產體系，想要更多的了解，歡迎咨詢圖片上的熱線電話。

     本產品可廣泛應用于觸摸屏ITO鍍膜、LCD顯示屏ITO鍍膜、薄膜太陽能電池背電極及AZO鍍膜、彩色濾光片鍍膜、電磁屏蔽玻璃鍍膜、AR鍍膜、裝飾鍍膜等產業(yè)領域。

雙室磁控濺射系統(tǒng)

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設備簡介

主要特點是設備體積小，結構簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低；該系列設備主要部件采用進口或者國內優(yōu)的配置，從而提高設備的穩(wěn)定性；另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。Sputter24均勻性及重現性非常出色,可以使用DC,RF,脈沖直流電源。 目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇，可以根據客戶的不同需求進行配置，比較靈活；標配4只Φ2英寸永磁靶，4臺500W直流濺射電源，主要用來開發(fā)納米級單層及多層的金屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。

雙靶磁控濺射鍍膜機的特點有哪些？

沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產、銷售磁控濺射產品，以下信息由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供。

產品特點

1：此款鍍膜儀配置有兩個靶槍：一個靶槍配套的是射頻電源，用于非導電靶材的濺射鍍膜；一個靶槍配套的是直流電源，用于導電材料的濺射鍍膜

2：該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜，應用非常廣泛。

3：該鍍膜儀體積較小，且配備有觸摸屏控制面板，操作方便。

磁控濺射介紹

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業(yè)生產、銷售磁控濺射產品，我們公司堅持用戶為上帝，想用戶之所想，急用戶之所急，以誠為本，講求信譽，以產品求發(fā)展，以質量求生存，我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)輝煌。

由于被濺射原子是與具有數十電子伏特能量的正離子交換動能后飛濺出來的，因而濺射出來的原子能量高，有利于提高沉積時原子的擴散能力，提高沉積組織的致密程度，使制出的薄膜與基片具有強的附著力。

濺射時，氣體被電離之后，氣體離子在電場作用下飛向接陰極的靶材，電子則飛向接地的壁腔和基片。該系列設備主要部件采用進口或者國內最優(yōu)的配置，從而提高設備的穩(wěn)定性。這樣在低電壓和低氣壓下，產生的離子數目少，靶材濺射效率低；而在高電壓和高氣壓下，盡管可以產生較多的離子，但飛向基片的電子攜帶的能量高，容易使基片發(fā)熱甚至發(fā)生二次濺射，影響制膜質量。另外，靶材原子在飛向基片的過程中與氣體分子的碰撞幾率也大為增加，因而被散射到整個腔體，既會造成靶材浪費，又會在制備多層膜時造成各層的污染。