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    發布時間:2020-12-17 07:35  

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    正性光刻膠

    正性光刻膠

    正性光刻膠也稱為正膠。雖然使用更薄的膠層厚度可以改善負性膠的分辨率,但是薄負性膠會影響孔。正性光刻膠樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛,提供光刻膠的粘附性、化學抗蝕性,當沒有溶解存在時,線性酚醛樹脂會溶解在顯影液中,感光劑是光敏化合物,常見的是重氮萘醌(DNQ)。在曝光前,DNQ是一種強烈的溶解,降低樹脂的溶解速度。在紫外曝光后,DNQ在光刻膠中化學分解,成為溶解度增強劑,大幅提高顯影液中的溶解度因子至100或者更高。這種曝光反應會在DNQ中產生羧酸,它在顯影液中溶解度很高。正性光刻膠具有很好的對比度,所以生成的圖形具有良好的分辨率。


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    2,涂膠,在硅片覆蓋,旋轉,離心力,在硅片表面通過旋轉的光刻膠,工藝參數3000-6000rpm   膠膜厚0.5-1um 

    3,前烘,通過在較高溫度下進行烘焙,使存底表面涂覆的光刻膠膜的溶劑揮發,溶劑將至5%左右,同時增強與襯底的粘附性。前烘方法:熱平板傳導,干燥循環熱風提高附著力,紅外線輻射。

    烘箱前烘條件:90-100度,10-20min,前烘時間與溫度應適當,如太長或溫度太高,光刻膠層變脆而附著力下降,而前烘不足會影響后面的顯影效果。


    光刻膠

    光刻膠由光引發劑、樹脂、溶劑等基礎組分組成,又被稱為光致抗蝕劑,這是一種對光非常敏感的化合物。章宇軒介紹,我們在日常工作生活中,之所以能從顯示屏幕上看到色彩斑斕的畫面,就是離不開屏幕中厚度只有2μm、卻占面板成本16%的一層彩色薄膜。此外,光刻膠中還會添加光增感劑、光致產酸劑等成分來達到提高光引發效率、優化線路圖形精密度的目的。在受到紫外光曝光后,它在顯影液中的溶解度會發生變化。

    分類

    根據光刻膠按照如何響應紫外光的特性可以分為兩類。

    正膠

    曝光前對顯影液不可溶,而曝光后變成了可溶的,能得到與掩模板遮光區相同的圖形。

    優點:分辨率高、對比度好。

    缺點:粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。

    靈敏度:曝光區域光刻膠完全溶解時所需的能量

    負膠egative






    Photo Resist)

    與正膠反之。

    優點: 良好的粘附能力和抗刻蝕能力、感光速度快。

    缺點: 顯影時發生變形和膨脹,導致其分辨率。

    靈敏度:保留曝光區域光刻膠原始厚度的50%所需的能量。


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