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    NR9 3000PY光刻膠價格誠信企業推薦 北京賽米萊德公司

    發布時間:2020-12-11 13:53  

    【廣告】







    NR77-20000P

    正膠PR1-2000A1技術資料

    正膠PR1-2000A1是為曝光波長為365 或者436納米,可用于晶圓步進器、掃描投影對準器、近程打印機和接觸式打印機等工具。PR1-2000A1可以滿足對附著能力較高的要求,在使用PR1-2000A1時一般不需要增粘劑,如HMDS。

    相對于其他的光刻膠,PR1-2000A1有如下的一些額外的優勢:

    PEB,不需要后烘的步驟;

    較高的分別率;

    快速顯影;

    較強的線寬控制;

    蝕刻后去膠效果好;

    在室溫下有效期長達2年。



    PR1-1000A1

    NR9-3000PY 負性光刻膠

    負膠 NR9-3000PY 被設計用于i 線(365 nm)曝光,可使用如步進光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻

    和接觸式光刻等工具。

    顯影之后,NR9-3000PY 展現出一種倒梯形側壁,這可以方便地作單純的LIFT-OFF 處理。

    NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優勢:

    - 優異的分辨率性能

    - 快速地顯影

    - 可以通過調節曝光能量很容易地調節倒梯形側壁的角度

    - 耐受溫度100℃

    - 室溫儲存保質期長達3 年

    Lift-Off工藝

    應用領域:LEDs,OLEDs,displays,MEMS,packaging,biochips。

    濕法蝕刻,鍍 干法蝕刻(RIE/Ion Milling/Ion implantation)

    附著力好Temperature resistance = 100°C 耐高溫Temperature resistance = 180°C

    Resist Thickness NR9-3000PY 負性光刻膠

    負膠 NR9-3000PY 被設計用于i 線(365

    nm)曝光,可使用如步進光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻



    NR77-25000P,RD8


     品牌

     產地

     型號

     厚度

     曝光

     應用

     加工

     特性

     Futurrex

     美國

     NR71-1000PY

     0.7μm~2.1μm

     高溫耐受

     用于i線曝光的負膠

     LEDOLED、

         顯示器、

     MEMS、

         封裝、

         生物芯片等

         金屬和介電

         質上圖案化,

         不必使用RIE

         加工器件的永

        組成

        (OLED顯示

         器上的間隔

         區)凸點、

         互連、空中

         連接微通道

         顯影時形成光刻膠倒

         梯形結構

         厚度范圍:

         0.5~20.0 μm

         i、g和h線曝光波長

         對生產效率的影響:

         金屬和介電質圖案化

         時省去干法刻蝕加工

         不需要雙層膠技術

     NR71-1500PY

      1.3μm~3.1μm

     NR71-3000PY

     2.8μm~6.3μm

     NR71-6000PY

     5.7μm~12.2μm

     NR9-100PY

     粘度增強

     NR9-1500PY

     NR9-3000PY

     2.8μm~6.3μm

     NR9-6000PY

     NR71G-1000PY

      負膠對  g、h線波長的靈敏度

     NR71G-1500PY

     NR71G-3000PY

     NR71G-6000PY

     NR9G-100PY

     0.7μm~2.1μm

     NR9G-1500PY

     1.3μm~3.1μm

     NR9G-3000PY

     NR9G-6000PY

     耐熱溫度

     PR1-500A

     0.4μm~0.9μm




    ?Futurrex

    提供先進化學技術的多樣化解決方案

    成立于1985年,總部設在美國新澤西州,富蘭克林市,高速成長并超過20年連續盈利的跨國公司

    公司業務覆蓋范圍包括北美,亞太以及歐洲

    基于多樣化的技術

    應用領域:微電子、光電子、LED、太陽能光伏、微機電系統、生物芯片、微流體、平面印刷

    解決方案:的光刻膠、摻雜涂層、平坦化涂層、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻擋層(Barrior Layere)、濕法制程

    客戶:從財富100強到以風險投資為背景的設備研發及制造公司

    使命

    目標

    提供特殊化學品和全新工藝來增加客戶的產能

    策略

    提供獨特的產品來優化生產制程,以提高設備能效

    領的技術提升生產過程中的整體性價比

    工藝步驟的減少降低了成本和產生瑕疵的可能

    增加客戶的產能和生產的效率

    工藝減化

    非同尋常的顯微構造、金屬及介電層上的圖形轉換、光刻、平坦化、摻雜、蝕刻、邦定

    在生產過程中,不含有害溶劑

    支持所有客戶的需要,與客戶共創成功


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