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真空鍍膜技術具有下列優點：

薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進行控制，薄膜與基體結合強度好，薄膜牢固。

鍍膜技術都需要一個特定的真空環境，以保證制膜材料在加熱蒸發或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾。

由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學性能和化學性能比電鍍膜和化學膜好。

真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。

在真空條件下成膜有很多優點：可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

蒸發鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質和不易熱分解的化合物膜。

真空鍍膜技術主要應用于哪些領域呢？

1.在裝飾品方面

隨著經濟的發展和生活水平的提高，人們喜歡將手表殼、表帶、服飾、燈飾等裝飾品精飾得五彩繽紛。

2.在模具等金屬切削加工工具方面

在生活中，我們會看到金色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等，這些就是經過鍍膜技術加工后的涂層工具。

3.在平板顯示器中

所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜。

真空鍍膜是一種產生薄膜材料的技術。真空鍍的基本原理：在真空條件下，金屬、金屬合金等被蒸發蒸發，然后沉積到基體表面，蒸發法通常采用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使其蒸發成氣相，然后沉積到基體表面。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.蒸發鍍膜 通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。