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    廣西感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機品牌價格合理 北京創(chuàng)世威納

    發(fā)布時間:2020-12-21 07:47  

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    感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機的結(jié)構(gòu)三

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    供氣系統(tǒng)供氣系統(tǒng)是向刻蝕腔體輸送各種刻蝕氣體,通過壓力控制器(PC)和質(zhì)量流量控制器(MFC)精準(zhǔn)的控制氣體的流速和流量。氣體供應(yīng)系統(tǒng)由氣源瓶、氣體輸送管道、控制系統(tǒng)、混合單元等組成。

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    感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機的結(jié)構(gòu)四

    真空系統(tǒng)真空系統(tǒng)有兩套,分別用于預(yù)真空室和刻蝕腔體。預(yù)真空室由機械泵單獨抽真空,只有在預(yù)真空室真空度達(dá)到設(shè)定值時,才能打開隔離門,進行傳送片。刻蝕腔體的真空由機械泵和分子泵共同提供,刻蝕腔體反應(yīng)生成的氣體也由真空系統(tǒng)排空。

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    等離子刻蝕工藝

    等離子體刻蝕分為兩個過程:首先,等離子體中產(chǎn)生化學(xué)活性組分;其次,這些活性組分與固體材料發(fā)生反應(yīng),形成揮發(fā)性化合物,從表面擴散排走。例如,CF4離解產(chǎn)生的F,與S反應(yīng)生成SiF4氣體,結(jié)果是在含Si材料的表面形成了微觀銑削結(jié)構(gòu)。等離子體刻蝕是一個通用術(shù)語,包括離子刻蝕、濺射刻蝕以及等離子體灰化等過程。

    基底和工藝參數(shù)決定了表面改性的類型,基底溫度、處理時間和材料擴散特性決定了改性深度。等離子體僅能在表面刻蝕幾個微米的深度,改性后的表面特性發(fā)生了改變,但大部分材料的特性仍能得以保持。這項技術(shù)還可以用于表面清洗、固話、粗化、改變親水性及粘結(jié)性等,同樣也可以使電子顯微鏡下觀察的樣品變薄以及應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路的制造過程中。在化學(xué)濺射中會發(fā)生反應(yīng)并產(chǎn)生揮發(fā)性產(chǎn)物。常用的氣體包括Ar、He、O2、H2、H2O、CO2、Cl2、F2和有機蒸氣等。與存在化學(xué)反應(yīng)的等離子體濺射相比,惰性離子濺射更像是一個物理過程。

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