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離子束刻蝕

離子束刻蝕技術是近年來發展起來的一種微細加工技術，它利用反應離子束轟擊團體表面時發生的濺射效應和化學反應剝離加工工作上的幾何圖形。具有極高的分辨率，能夠控制槽深和槽壁角度，表面應力小。反應離子束刻蝕技術已有效地用于研究和制造大規模和超大規模集成電路，聲表面波器件，磁泡存儲器，離子束刻蝕機工作原理，微波器件，集成光路，超導器件，閃爍光柵等。

離子束刻蝕機

離子束刻蝕機由真空室、工作臺、快門、真空抽氣系統、供氣系統、水冷系統、電源和  電器系統等主要部分組成，圖1-1所示為離子束刻蝕機的工作原理圖。該機在正常工作  時，首先將真空室的壓力抽至2×10-3Pa或更低，再調節Ar氣流量，離子束刻蝕機廠家，使真空室壓力保持  在1×10-2~2×10-2Pa(如需要輔助氣體，如O2、CH2等，則可按一定比例與之混合)，  然后啟動離子源各電源，使離子源正常工作，離子束刻蝕機，從離子源引出一定能量和密度的離子束  被中和器發射的電子中和后，轟擊工件進行濺射刻蝕。

離子束

1.蝕刻加工：離子蝕刻用于加工陀螺儀空氣軸承和動壓馬達上的溝槽，分辨率高，精度、重復一致性好。離子束蝕刻應用的另一個方面是蝕刻圖形，如集成電路、光電器件和光集成器件等征電子學構件。太陽能電池表面具有非反射紋理表面。離子束蝕刻還應用于減薄材料，離子束刻蝕機哪家好，制作穿透式電子顯微鏡試片。2.離子束鍍膜加工：離子束鍍膜加工有濺射沉積和離子鍍兩種形式。離子鍍可鍍材料范圍廣泛，不論金屬、非金屬表面上均可鍍制金屬或非金屬薄膜，各種合金、化合物、或某些合成材料、半導體材料、高熔點材料亦均可鍍覆。

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