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    發(fā)布時(shí)間:2020-11-07 07:09  

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    靜電場(chǎng)氣泡水蔬菜處理技術(shù)


    清洗工藝要素的選擇:

    1、清洗介質(zhì):采用超聲波清洗,一般有兩種清洗劑:化學(xué)溶劑和水基清洗劑。清洗介質(zhì)的化學(xué)作用,加上超聲波清洗的物理作用,兩種作用相結(jié)合,以對(duì)物體進(jìn)行充分、徹底的清洗。

    2、清洗溫度:一般來(lái)說(shuō),超聲波在30℃-40℃時(shí)空化效果好。清洗劑則溫度越高越好,作用越顯著。通常實(shí)際應(yīng)用超聲波清洗時(shí),采用40℃-60℃的工作溫度。

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        等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子,作用到固體樣品表面,不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì),而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用,將樣品表面變粗糙,形成許多微細(xì)坑洼,增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤(rùn)濕性能。

      1)對(duì)材料表面的刻蝕作用--物理作用

      2)交聯(lián)作用

      等離子體中的粒子能量在0~20eV,而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV,因此等離子體作用到固體表面后,可以將固體表面的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂,等離子體中的自由基與這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu)。

      3)形成新的官能團(tuán)--化學(xué)作用


          多層鍍膜過(guò)程之間的清洗:多層鍍膜過(guò)程中時(shí)有污染,可以調(diào)整清洗器能量檔位來(lái)對(duì)鍍膜件在鍍膜過(guò)程中的污染進(jìn)行清洗,使下一次鍍膜效果更好。

      其他的如等離子刻蝕、活化和涂鍍等:由于等離子清洗處理的功能和用途如此之多,因此,光學(xué)、光電子、光通訊、電子、微電子、半導(dǎo)體、激光、芯片、珠寶、顯示、航天航空、生命科學(xué)、醫(yī)學(xué)、、生物、物理、化學(xué)等各方面的科研和生產(chǎn)都有其應(yīng)用之處。


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