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發布時間：2020-11-04 11:58
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NR9-3000PY
四、對準（Alignment）
光刻對準技術是曝光前一個重要步驟作為光刻的三大核心技術之一，一般要求對準精度為細線寬尺寸的 1/7---1/10。隨著光刻分辨力的提高 ，對準精度要求也越來越高 ，例如針對 45am線寬尺寸 ，對準精度要求在5am 左右。
受光刻分辨力提高的推動 ，對準技術也經歷 迅速而多樣的發展 。從對準原理上及標記結 構分類 ，對準技術從早期的投影光刻中的幾何成像對準方式 ，包括視頻圖像對準、雙目顯微鏡對準等，一直到后來的波帶片對準方式 、干涉強度對準 、激光外差干涉以及莫爾條紋對準方式 。光刻工藝重要性二光刻膠的曝光波長由寬譜紫外向g線→i線→KrF→ArF→EUV(13。從對準信號上分 ，主要包括標記的顯微圖像對準 、基于光強信息的對準和基于相位信息對準。
NR77-20000P
正膠PR1-2000A1技術資料
正膠PR1-2000A1是為曝光波長為365 或者436納米，可用于晶圓步進器、掃描投影對準器、近程打印機和接觸式打印機等工具。PR1-2000A1可以滿足對附著能力較高的要求，在使用PR1-2000A1時一般不需要增粘劑，如HMDS。
相對于其他的光刻膠，PR1-2000A1有如下的一些額外的優勢：
PEB，不需要后烘的步驟；
較高的分別率；
快速顯影；
較強的線寬控制；
蝕刻后去膠效果好；
在室溫下有效期長達2年。
光刻膠
光刻膠組分及功能
光引發劑
光引發劑吸收光能（輻射能）后經激發生成活性中間體，并進一步引發聚合反應或其他化學反應，是光刻膠的關鍵組分，對光刻膠的感光度、分辨率等起決定性作用。
樹脂
光刻膠的基本骨架，是其中占比較大的組分，主要決定曝光后光刻膠的基本性能，包括硬度、柔韌性、附著力、曝光前后對溶劑溶解度的變化程度、光學性能、耐老化性、耐蝕刻性、熱穩定性等。
溶劑
溶解各組分，是后續聚合反應的介質，另外可調節成膜。
單體
含有可聚合官能團的小分子，也稱之為活性稀釋劑，一般參加光固化反應，可降低光固化體系粘度并調節光固化材料的各種性能。
光增感劑
是引發助劑，能吸收光能并轉移給光引發劑，或本身不吸收光能但協同參與光化學反應，起到提高引發效率的作用。
光致產酸劑
吸收光能生成酸性物質并使曝光區域發生酸解反應，用于化學增幅型光刻膠。
助劑
根據不同的用途添加的顏料、固化劑、分散劑等調節性能的添加劑。
主要技術參數
分辨率（resolution）
是指光刻膠可再現圖形的小尺寸。一般用關鍵尺寸來（CD，CriticalDimension）衡量分辨率。
