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    發布時間:2020-11-14 06:56  

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     真空電鍍是真空鍍膜工藝的一項新發展。真空電鍍當高溫蒸發源通電加熱后,真空電鍍促使待鍍材料—蒸發料熔化蒸發。真空電鍍蒸發料粒子獲得一定動能,真空電鍍則沿著視線方向徐徐上升,后真空電鍍附著于工件外表上堆積成膜。真空電鍍用這種工藝形成的鍍層,真空電鍍與零件外表既無牢固的化學結合。

      真空電鍍的簡單作用過程:真空電鍍接通蒸發源交流電源,真空電鍍蒸發料粒子熔化蒸發,真空電鍍進入輝光放電區并被電離。





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    真空電鍍帶正電荷的蒸發料離子,陰極吸引下,隨同離子一同沖向工件,真空電鍍當拋鍍于工件表面上的蒸發料離子逾越濺失離子的數量時,真空電鍍則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

     真空電鍍工藝則有所不同,真空電鍍是真空罩內進行的但這時鍍膜過程是以電荷傳遞的形式來實現的,真空電鍍蒸發料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)吸引下,真空電鍍以很高的速度注入到工件表面。




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    真空電鍍層厚度控制方法

      1、原理:每種金屬電鍍時的厚度與電流密度和電鍍時間有關。

      2、方法:首先要計算出每種工件的面積,然后根據電鍍工藝要求確定每個工件的電流密度。例如:比亞迪的插頭射頻端口面積約為0.13dm2,鍍錫工藝要求電流密度為1.5A/dm2,因此每個工件的施鍍電流約0.20A。如每掛掛72個,則每掛的施鍍電流應為15A。確定了電流以后,厚度就只跟時間有關了,根據電化學計算,當電流密度為1.5A/dm2時,電鍍1u的錫鍍層約需要1.5分鐘,如要求鍍層厚度4u,則需鍍4.5分鐘。





    隨著科技的進步,一些電子工業及民用包裝產業的的飛速發展,真空電鍍工藝也將會飛速發展起來。真空電鍍工藝主要是通過加熱器把膜材蒸發、蒸發的膜材原子或分子遷移吸附到基體表面的成膜工藝,因此根據膜材的種類不同大體可分為金屬膜的真空電鍍、合金膜的真空電鍍及化合物的真空電鍍這三大類。真空電鍍(PVD)是一種將塑料表面類金屬化的加工方式。塑料表面上的類金屬具有金屬導電熱傳的特性,但卻不具有金屬的剛性,同時此加工方式并不會改變塑料原有的特性,所以在應用的領域上相當的廣泛。




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