鍍硬鉻廠家服務為先「漢銘表面處理」

電鍍硬鉻技術層次鍍鉻對電源的性能要求比較高，特別是紋波因數和穩定精度在鍍鉻工藝控制曲線范圍內，只有保持一定的電流密度精度，才能保證各鍍鉻層質量的穩定。根據有關的資料和經驗，鍍槽中的溶液在電流密度大于某一值時才起化學反應。一般把紋波因數定在額定功率備件下的電流或電壓的20%時，紋波因數小于5%，要求控制精度為1%。為了保證電源性能達到上述工藝要求。

鍍硬鉻鍍層粗糙有鉻瘤的原因及處理辦法

陰極電流密度過大 在鍍鉻過程中，陰極電流密度與溫度之間存在著相互依賴的關系。在同一溶液中鍍鉻時，通過調整溫度和電流密度，并控制在適當的范圍內，可以獲得光亮鉻、硬鉻和乳白鉻三種不同性能的鍍鉻層。在低溫高電流密度區，鉻鍍層呈灰暗色或燒焦，這種鍍層具有網狀裂紋、硬度大、脆性大；高溫低電流密度區，鉻層呈乳白色，這種組織細致、氣孔少、無裂紋，防護性能較好，但硬度低，耐磨性差；中溫中電流密度區或兩者配合較好時，可獲得光亮鍍鉻層，這種鉻層硬度較高，有細而稠密的網狀裂紋。若配合不當，對鍍鉻溶液的陰極電流效率、分散能力、鍍層的硬度和光亮度都有很大的影響。如鍍液溫度高達70℃左右，那么即使升高電流密度，也難以得到光亮的鍍層。生產上一般采用中等溫度(45～60℃)與中等電流密度(30～45A／dm2)以得到光亮度和硬度較高的鉻鍍層。盡管鍍取光亮鍍層的工藝條件相當寬，但考慮到鍍鉻液的分散能力特別差，在形狀復雜的零件鍍裝飾鉻或硬鉻時，要在不同部位都鍍上厚度均勻的鉻層，必須嚴格控制溫度和電流密度。當鍍鉻工藝條件確定后，鍍液的溫度變化控制在±2℃以內。

鍍硬鉻鍍層粗糙有鉻瘤的原因及處理辦法

(1)陰陽極間距太近

提高鍍層的均勻性，只有改變初次電流分布，即改變幾何因素來提高鍍層的均勻性

處理方法：控制陰極與陽極間距離大于200mm，使工件的相對幾何尺寸縮小，保證陰極電力線分布均勻

(2)工件凸凹處未使用陰極保護

處理方法：采用陰極保護，合理布置陽極

硬鉻電鍍提髙效率與質量的方法：

微裂紋硬鉻添加劑屬于第三代添加劑，在保持了第二代添加劑（如稀土、草酸）的（高速度，高硬度與高微裂紋）的同時，又解決了對陽極的腐蝕、工件低電位區的腐蝕等。性能穩定生產效率髙，能耗少，廣泛應用到航空，，汽車，摩托車，制版造紙機械，紡織機械等行業。降低了成本，提高了經濟效益，并且對環境的保護起了極大的作用。

工藝特點：

① 陰極電流效率髙（達25~25%），沉積速度快（比傳統鍍鉻工藝快一倍以上。在陰極電流密度60A/dm2，溫度55~65°C時，電流效率達到60um/h。

② 鉻層硬度高（860～1200，按GB9790－88）。耐磨損摩擦性好（比傳統鍍鉻可提高20～30%）。

③ 鉻層微裂紋多（可達200～1000條/cm2），耐腐蝕性提高（比傳統鍍鉻可提高一倍）。

④ 鍍層與基體結合力強，前處理與傳統鍍鉻相同，操作容易。