廣東單道掃描ICP光譜儀廠家廠家直供「多圖」

鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

檢 出 限：亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L） 長期穩(wěn)定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）

光  源

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率：27.12MHz

輸出功率：700W-1600W 功率穩(wěn)定性：< 0.1%

儀器規(guī)格

尺寸：寬 x 深 x 高（106cm x 67cm x 75cm） 重  量：約 180kg

光學(xué)系統(tǒng)

分析譜線范圍：165-950nm

分  辨  率： 0.007nm@200nm

光室恒溫：38℃ ±0.1℃

CCD 像素：1024x 1024

單像素面積：24μm x 24μm

工作環(huán)境

實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境：相對(duì)濕度 20%~80% 氬氣純度：不小于 99.95%

排  風(fēng)：不小于 400 立方米 / 小時(shí)

電  源：200V~240V AC 單相；50Hz~60Hz；4kVA

Plasma 2000 技術(shù)特點(diǎn)

1.  優(yōu)異的光學(xué)系統(tǒng)

2.  固態(tài)有效射頻發(fā)生器，體積更加小巧

3.  流程自動(dòng)化，狀態(tài)監(jiān)控及自動(dòng)保護(hù)

4.  科研級(jí)檢測器，極高的紫外量化效率

5.  強(qiáng)大分析譜線

6.  信息直觀豐富

7.  多窗口多方法

8.  編輯功能強(qiáng)大

9.  智能譜圖標(biāo)定

10. 智能干擾矯正

想了解更多產(chǎn)品信息您可撥打公司熱線進(jìn)行咨詢！鋼研納克竭誠為您服務(wù)！

鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀

Plasma2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克在首批“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)”支持下研發(fā)的二維全譜高分辨ICP光譜儀，是國產(chǎn)全譜ICP光譜儀革命性產(chǎn)品，曾斬獲中國儀器儀表行業(yè)協(xié)會(huì)“自主創(chuàng)新金獎(jiǎng)”等一系列榮譽(yù)，在業(yè)界獲得廣泛的好評(píng)。美觀精致的高顏值工業(yè)設(shè)計(jì)，優(yōu)異穩(wěn)定的測試性能源于納克近四十年ICP行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。Plasma2000擁有

1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，徑向觀測，具有穩(wěn)健的檢測能力。

2、 有效穩(wěn)定的自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的精度較高運(yùn)行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

3、 高速面陣CCD采集技術(shù)，單次曝光獲取全部譜線信息，真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”。

4、 功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，簡化分析方法的開發(fā)過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗(yàn)。

可廣泛應(yīng)用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草ICP-AES國家標(biāo)準(zhǔn)

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家標(biāo)準(zhǔn)

儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日，國家標(biāo)準(zhǔn)委決定發(fā)布通知對(duì)2014年第二批擬立項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn)項(xiàng)目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家推薦標(biāo)準(zhǔn)。主管部門為中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)，歸口單位為國工業(yè)過程測量和控制標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)會(huì)，起草單位為鋼研納克檢測技術(shù)有限公司，計(jì)劃完成時(shí)間為2016年。

《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標(biāo)準(zhǔn)將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術(shù)語與縮略語、分類、要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存。

據(jù)介紹，制定該標(biāo)準(zhǔn)旨在提升我國ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性，使儀器性能穩(wěn)定;通過規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準(zhǔn)入門檻，形成具有競爭力的企業(yè)。從而縮小國產(chǎn)儀器同國外儀器的性能差距，提高國產(chǎn)ICP光譜儀的市場占有率。對(duì)ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。

項(xiàng)目起草單位鋼研納克檢測技術(shù)有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學(xué)結(jié)構(gòu)和科研級(jí)CCD檢測器實(shí)現(xiàn)全譜采集，該儀器是鋼研納克“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)”成果。