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簡述

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜開發成功

此外，此種技術和設備除上述 以外的諸多優點為:1.從開、收卷裝置處的大氣壓環境至真空鍍金屬爐中的高真空狀態，其間共經6個階段，是逐漸提高其真空度的，每一階段中的某種程序的真空度差異并不影響后的真空度。因此，采用此種設備能使被蒸鍍條狀材在鍍金屬室中作連續運行。其運行速率可以調節。

真空鍍膜優點

4.此種設備能使金屬蒸鍍層表面質量，所鍍覆的金屬層無和濺潑痕跡等疵病。這是由于電磁功率的增加以及氧化膜和碳質被塔禍壁本身清除干凈，使熔融鋁的表面清潔無瑕所致。