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    磁控濺射沉積設(shè)備價格優(yōu)惠報價「沈陽鵬程」

    發(fā)布時間:2021-03-23 19:26  

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    光纖磁控濺射鍍膜機(jī)組成

    以下內(nèi)容由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供,希望對同行業(yè)的朋友有所幫助。

    設(shè)備用途:

    在光纖表面鍍制納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。配有陽極層離子源進(jìn)行清洗和輔助沉積,同時設(shè)備具有反濺射清洗功能,以提高膜的質(zhì)量和牢固度。專用樣品臺可鍍制多種型號光纖產(chǎn)品

    系統(tǒng)主要由真空室、磁控靶、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組成。



    濺射鍍膜的特點

    濺射就是從靶表面撞擊出原子物質(zhì)的過程。濺射產(chǎn)生的原子或分子沉積到基體(零件)表面的過程就是濺射鍍膜。

    濺射鍍膜與真空鍍膜相比,有如下特點:

    1.任何物質(zhì)都可以濺射, 尤其是高熔點金屬、低蒸氣壓元素和化合物;

    2.濺射薄膜與襯底的附著性好;

    3.濺射鍍膜的密度高,孔少,膜層純度高;

    4.膜層厚度可控性和重復(fù)性好。

    以上就是為大家介紹的全部內(nèi)容,希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多磁控濺射產(chǎn)品的知識,歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。







    自動磁控濺射系統(tǒng)有哪些特點?

    沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品,我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

    自動磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品特點:

    不銹鋼腔體

    晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率

    帶觀察視窗的腔門易于上下的載片

    基于LabView軟件的PC計算機(jī)控制

    帶密碼保護(hù)功能的多級訪問控制

    完全的安全聯(lián)鎖功能

    預(yù)真空鎖以及自動晶圓片上/下的載片



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