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    不銹鋼標(biāo)牌加工推薦貨源「延銘標(biāo)牌」

    發(fā)布時(shí)間:2021-06-06 15:03  

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    大型不銹鋼蝕刻標(biāo)牌的制作

    不銹鋼具有合金鋼的機(jī)械強(qiáng)度和性能,有光亮的灰白色澤,更重要的是有很好的抗大氣腐蝕性能,因此被廣泛地應(yīng)用在工業(yè)和日常生活的各領(lǐng)域。在裝飾制件中更少不了不銹鋼的產(chǎn)品。無論是小的五金零件或是大型的壁件,很多都采用不銹鋼材料。南京某集團(tuán)

    表面處理廠曾經(jīng)制作一批大型的不銹鋼標(biāo)牌。其中大的尺寸為6m×1.2m。標(biāo)牌的圖紋腐蝕深度要求達(dá)到0.6mm左右,而且腐蝕部分不能太光亮,與基體板材形成對(duì)比反差,使具有一定的金屬質(zhì)感和裝飾藝術(shù)感。

    大型的標(biāo)牌制作很難用照相法或絲網(wǎng)印刷法制板,因?yàn)榈装宓闹谱骱推毓怆y度都很大,很難一次制成。因此,該廠采用化學(xué)切削工藝蝕刻制作。

    (二)制作的工藝流程

    不銹鋼板→脫脂除油→清洗→烘干→涂保護(hù)涂料→硫化→修補(bǔ)→移印→刻形→蝕刻→清洗→切邊→清理→填充→罩透明漆→干燥→成品。

    (三)制作工藝條件及具體操作

    1.除油脫脂

    不銹鋼板表面由于加工、運(yùn)輸或儲(chǔ)存的原因,遺留有不同程度的油污,必須要徹底清除,否則會(huì)直接影響保護(hù)涂層與板材表面的結(jié)合力。結(jié)合得不好,可能使保護(hù)層在蝕刻過程中脫落,終會(huì)導(dǎo)致文字、圖案等出現(xiàn)變形甚至模糊。

    油污較多的可先用刷洗除油,然后再用化學(xué)堿液除油,這種大型的板塊不可能用電解除油,因此要除油干凈,可能要經(jīng)過多次擦洗,并用水噴淋沖洗干凈。

    2.涂保護(hù)涂料

    不銹鋼板除油清洗干燥后,即涂上保護(hù)涂料。由于要求蝕刻的深度較深,所以選用的保護(hù)涂料應(yīng)與基體有良好的附著力,涂層本身有較好的強(qiáng)度和延伸率。涂刷時(shí)要控制好涂層的厚度,大約為0.2~o.3mm。如果涂層太厚,不利于刻形。對(duì)于操作過程中的損傷及影響操作及性能的顆粒、氣泡及夾雜物等,要去除并修補(bǔ)缺陷部位。太薄,起不到保護(hù)作用。先計(jì)算好涂料的總用量,然后涂完為止,不能多涂,也不能少涂,以保證涂層的厚度。對(duì)涂好的膜層,要求無嚴(yán)重流掛,無顆粒及無氣泡。

    3.保護(hù)涂料的硫化(固化)

    通過一定的操作條件使保護(hù)涂層有一定的強(qiáng)度和附著力,以便保證加工精度和基本要求。如果用室溫固化型涂料,則放置到規(guī)定的時(shí)間,讓涂層自然固化。涂層固化后,要仔細(xì)檢查表面的質(zhì)量。蝕刻就是在它的上面進(jìn)行加工,一起來看看金屬標(biāo)牌蝕刻突破瓶頸的模式吧。對(duì)于操作過程中的損傷及影響操作及性能的顆粒、氣泡及夾雜物等,要去除并修補(bǔ)缺陷部位。對(duì)于加熱固化型的涂料,還需要用熱吹風(fēng)機(jī)對(duì)修補(bǔ)部分局部固化,以便與整體涂層一致。




    標(biāo)識(shí)的制作工藝;金屬采用焊接,折彎,洗槽,車床,水切割,線切割,打磨,拋光, 拉絲,電鍍,氧化,腐濁,烤漆。亞克力和玻璃表面采用絲印,貼即時(shí)貼,雕刻,噴砂 等工藝根據(jù)設(shè)計(jì)圖紙來綜合加工。標(biāo)識(shí)的關(guān)鍵在設(shè)計(jì)理念和制作工藝的合理性。而蝕刻則是一種有意識(shí)、有選擇性的,為達(dá)到預(yù)期目的而實(shí)施的一種刻意行為。標(biāo) 識(shí)系統(tǒng)設(shè)計(jì)是整個(gè)項(xiàng)目的前期而標(biāo)識(shí)系統(tǒng)后期制作完成材料和工藝起到致命性的作用。 噴漆工藝:在標(biāo)識(shí)標(biāo)牌制作噴漆具體操作過程中,要分為以下這十一道工序:

    1、除油 2、清洗(除油后用水清洗) 3、除銹 4、清洗(除銹后用水清洗) 5、表調(diào) 6、磷化 7、清洗(磷化后用水清洗) 8、干燥(磷化、清洗后使待噴漆工件干燥) 9、噴涂 10、干燥 11、噴涂膜質(zhì)量檢查。



    負(fù)載(Loading)-- 蝕刻速率依賴于可蝕刻表面數(shù)量,可在宏觀或微觀尺寸下。 縱橫比決定蝕刻(Aspect Ratio Dependent Etching/ARDE)--蝕刻速率決定于縱橫比。 終點(diǎn)(Endpoint)-- 在一個(gè)蝕刻過程中,平均膜厚被蝕刻干凈時(shí)的時(shí)間點(diǎn)。 光刻膠(Photo-resist)-- 作為掩膜用來圖形轉(zhuǎn)移的光敏材料。本文針對(duì)國產(chǎn)不銹鋼板材,研究了化學(xué)蝕刻、化學(xué)拋光和電鍍鉻工藝參數(shù)不銹鋼蝕刻標(biāo)牌不銹鋼化學(xué)蝕刻配方和工藝參數(shù)為:fecl3660~850g/l、hcl(36%)8~20ml/l,添加劑10~20g/l,溫度45~50℃。 分辨率(Resolution)-- 用于測(cè)試光學(xué)系統(tǒng)把相鄰的目標(biāo)形成分離圖像的能力。 焦深 (Depth of focus) – 在焦平面上目標(biāo)能形成影像的縱向距。 關(guān)鍵尺寸(Critical dimensi-CD)-- 一個(gè)特征圖形的尺寸,包括線寬、間隙、或者 關(guān)聯(lián)尺寸。


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