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發布時間：2020-11-08 02:12
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陽極氧化電解溶液的選擇。陽極氧化膜生長的一個先決條件是，電解液對氧化膜應有溶解作用。但這并非說在所有存在溶解作用的電解液中陽極氧化都能生成氧化膜或生成的氧化膜性質相同。陽極氧化膜結構、性質。陽極氧化膜由兩層組成，多孔的厚的外層是在具有介電性質的致密的內層上上成長起來的，后者稱為阻擋層。用電子顯微鏡觀察研究，膜層的縱橫面幾乎全都呈現與金屬表面垂直的管狀孔，它們貫穿膜外層直至氧化膜與金屬界面的阻擋層。以各孔隙為主軸周圍是致密的氧化鋁構成一個蜂窩六棱體，稱為晶胞，整個膜層是又無數個這樣的晶胞組成。阻擋層是又無水的氧化鋁所組成，薄而致密，具有高的硬度和阻止電流通過的作用。
鋁合金氧化生產工藝流程：
鋁材裝架 → 脫脂 → 水洗 → 堿蝕 → 水洗（二道）→ 中和（出光）→ 水洗 → 陽極氧化（DC法）→ 水洗→ 封孔水洗→著色（AC法）→水洗→水洗→ 卸架
三、陽極氧化
目的：人為在制品表面生成（或加厚）氧化膜。
方法：化學氧化、陽極氧化
化學氧化
在一定溫度下，在含有氧化劑（常用鉻酸鹽）和活化劑（常用碳酸鹽）的溶液中，通過化學作用使鋁離子和氧化溶液中的氧相互作用在制品表面生成一層致密氧化膜的方法。
化學氧化所采用的溶液的種類是很多的，的是含有碳酸鈉作為活化劑的溶液中進行化學氧化處理。
化學氧化法所獲得的各種氧化膜比較薄，大約有0.5～4微米，質軟不耐磨，抗蝕性能低于陽極氧化膜，不宜單獨使用。但化學氧化膜有較好的吸附能力，可作為涂漆的良好底層。
鋁及鋁合金的氧化處理的方法主要有兩類：
天然氧化
氧化膜較薄，厚度約為0.5～4微米,且多孔，質軟，具有良好的吸附性，可作為有機涂層的底層，但其耐磨性和抗蝕性能均不如陽極氧化膜；
電化學氧化
氧化膜厚度約為5～20微米（硬質陽極氧化膜厚度可達60～200微米），有較高硬度，良好的耐熱和絕緣性，抗蝕能力高于化學氧化膜，多孔，有很好的吸附能力。
鋁及鋁合金的化學氧化處理設備簡單，操作方便，生產，不消耗電能，適用范圍廣，不受零件大小和形狀的限制。
鋁及鋁合金化學氧化的工藝按其溶液性質可分為堿性氧化法和酸性氧化法兩大類。
按膜層性質可分為:氧化物膜、磷酸鹽膜、鉻酸鹽膜、鉻酸－磷酸鹽膜。
堿性氧化
工藝規范
1、開槽：整平光亮液(開槽液)
2、生產：溫度：95～110℃時間：1～5min
3、添加：當槽液液面不能滿足生產要求時，應及時補充添加液。補充添加液時一定要補充到初始液位。添加后，應充分攪拌槽液，然后開始生產。
4、管理：整平光亮槽管理非常簡單，及時按比例添加即可，溶解與帶出的AL3 可達到平衡，槽液壽命在3年以上。
5、消耗：鋁耗比酸蝕低，與拋光相當；整平光亮劑消耗約為200～250Kg/T。
三、工藝對比整平光亮技術是在堿蝕、酸蝕、拋光技術基礎上發展起來的，她吸收了前三項技術的優點，同時又避免了其缺點，是-項難得的技術突破。
