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公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

掩膜（MASK）：全稱單片機掩膜，是指程序數據已經做成光刻版，在單片機生產的過程中把程序做進去。優點是：程序可靠、成本低。缺點：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時生產，供貨周期長。

制版（platemaking）是將原稿成印版的統稱。③結構特征提取,用相似性變量或圖像匹配方法檢測和提取圖像中與掩模相似的結構特征。有將鉛活字排成活字版，以及用活字版打成紙型現澆鑄成凸版和將圖像經照像或電子分色獲得底片，用底片曬制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。在制版中影響印版質量的因素，主要有顯影液濃度、顯影溫度和顯影時間以及顯影液的循環攪拌情況、顯影液的疲勞程度等。

制版（platemaking）是將原稿成印版的統稱。作為半導體、液晶顯示器制造過程中轉移電路圖形“底片”的高精密工具，光掩膜是半導體制程中非常關鍵的一環。有將鉛活字排成活字版，以及用活字版打成紙型現澆鑄成凸版和將圖像經照像或電子分色獲得底片，用底片曬制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。在制版中影響印版質量的因素，主要有顯影液濃度、顯影溫度和顯影時間以及顯影液的循環攪拌情況、顯影液的疲勞程度等。

PS版的顯影時間主要由PS版的種類、曝光時間及顯影液的濃度、顯影溫度等條件來確定。當上述條件確定制版機后，PS版的顯影程度與顯影時間成正比關系，即顯影時間越長，顯影越徹底。但顯影時間過長會產生網點縮小等現象。

光致抗蝕劑也被稱為光致抗蝕劑。掩模板上的圖案被轉移到晶片表面頂層的光致抗蝕劑上，并且在后續工藝中保護下面的材料(蝕刻或離子注入)。光致抗蝕劑由光敏樹脂、光引發劑、添加劑、溶劑等組成。其中，光敏樹脂是光刻膠的關鍵成分。