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發(fā)布時間：2021-03-22 17:37
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方箱PECVD簡介
該系統(tǒng)為單室薄膜太陽電池等離子增強化學(xué)氣相沉積（PECVD）工藝研發(fā)設(shè)備，用來在硅片上沉積SiOx、SiNx、非晶硅、多晶硅、碳材料等薄膜，鍍膜樣品為156×156mm基片（并向下兼容）。
設(shè)備概述：
1.系統(tǒng)采用單室方箱式結(jié)構(gòu)，手動前開門；
2.真空室:尺寸為350mm×350×280mm；
3.極限真空度：≤6.67x10-4 Pa (經(jīng)烘烤除氣后，采用分子泵抽氣)；
系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S； 系統(tǒng)從大氣開始抽氣到5.0x10-3 Pa，35分鐘可達(dá)到
（采用分子泵抽氣，分子泵不配，預(yù)留分子泵接口)； 停泵關(guān)機12小時后真空度：≤5 Pa（采用分子
泵抽氣，分子泵不配，預(yù)留分子泵接口)；
4.采用樣品在下，噴淋頭在上噴淋式進氣方式；
5.樣品加熱加熱溫度：300℃，溫控精度：±1°C，采用日本進口控溫表進行控溫；
6.噴淋頭尺寸：200×200mm，噴淋頭與樣品之間電極間距20-80mm連續(xù)可調(diào)；
7. 沉積工作真空：13-1300Pa；
8.氣路設(shè)有勻氣系統(tǒng)，真空室內(nèi)設(shè)有保證抽氣均勻性抽氣裝置；
9.射頻電源：頻率 13.56MHz，功率500W，全自動匹配；
10.SiH4、NH3、CO2、N2、H2、PH3、B2H6、七路氣體，共計使用7個質(zhì)量流量控制器控制進氣。
11. 系統(tǒng)設(shè)有尾氣處理系統(tǒng)(高溫裂解方式)。
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化學(xué)氣相沉積的應(yīng)用
現(xiàn)代科學(xué)和技術(shù)需要使用大量功能各異的無機新材料，這些功能材料必須是高純的，或者是在高純材料中有意地?fù)饺肽撤N雜質(zhì)形成的摻雜材料。但是，我們過去所熟悉的許多制備方法如高溫熔煉、水溶液中沉淀和結(jié)晶等往往難以滿足這些要求，也難以保證得到高純度的產(chǎn)品。因此，無機新材料的合成就成為現(xiàn)代材料科學(xué)中的主要課題。具體做法是使用分解溫度極低的金屬有機化合物當(dāng)做制備鈀的材料，具體包括：烯丙基Pd（η-C3H5）（η-C5H5）以及Pd（η-C3H5）（CF3COCHCOCF3）之類的材料，使用這種方式能夠制取出純度很高的鈀薄膜。
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化學(xué)氣相沉積的特點
以下內(nèi)容由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助。
特點
1）在中溫或高溫下，通過氣態(tài)的初始化合物之間的氣相化學(xué)反應(yīng)而形成固體物質(zhì)沉積在基體上。
2）可以在常壓或者真空條件下(負(fù)壓“進行沉積、通常真空沉積膜層質(zhì)量較好）。
）采用等離子和激光輔助技術(shù)可以顯著地促進化學(xué)反應(yīng)，使沉積可在較低的溫度下進行。
4）涂層的化學(xué)成分可以隨氣相組成的改變而變化，從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層。
5）可以控制涂層的密度和涂層純度。
6）繞鍍件好。可在復(fù)雜形狀的基體上以及顆粒材料上鍍膜。適合涂覆各種復(fù)雜形狀的工件。由于它的繞鍍性能好，所以可涂覆帶有槽、溝、孔，甚至是盲孔的工件。
7）沉積層通常具有柱狀晶體結(jié)構(gòu)，不耐彎曲，但可通過各種技術(shù)對化學(xué)反應(yīng)進行的氣相擾動，以改善其結(jié)構(gòu)。
8）可以通過各種反應(yīng)形成多種金屬、合金、陶瓷和化合物涂層。
