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軟水器附近需要哪些材料

運行費用低由于自動化程度高，軟化器能適應水量變化，地計量產(chǎn)水量，準確的計量再生劑的用量，避免了再生時再生劑無辜的浪費，同時可節(jié)省(spare)大量的人工費。

1. 地基需水平，普通水泥（材料:粉狀水硬性無機膠凝材料)面即可，軟水器附近需要有地漏或排水溝。

2. 原水硬度（Hardness)：<8mmol/l(即400mg/l，如硬度大于8mmol/l，請用戶提前聲明)。

3. 入水壓(特指:壓強)力：保持持續(xù)壓力0.2～0.6mpa(包括產(chǎn)水工作過程和再生過程)(如<0.2mpa須加管道泵);當來水壓力不足時(或者無恒壓力時)，需要配備加壓泵，但是需要對泵的開啟、關(guān)閉進行控制（control)。

軟化水處理樹脂一般均在常溫下再生

軟化水處理樹脂一般均在常溫下再生。水處理設備任何物質(zhì)都有自己固有的頻率，水垢屬于無機鹽類，一般設備的外殼都是金屬材料制作，水垢和金屬材料的振蕩頻率不同。陰樹脂再生時，所用再生液的溫度（temperature)和再生時間，對再生程度的影響要比陽樹脂大。當原水中Si02 <ΣA<10%，加熱堿液不經(jīng)濟Si02 <ΣA比值（兩數(shù)相比所得的值)升高時，加熱堿液除硅(silicon)效果明顯提高。陰離子交換樹脂提高再生液的溫度可以改善對硅(silicon)酸的再生效果和縮短再生時間，但溫度太高易使樹脂的交換基團分解，影響其交換容量的使用周期(lifetime)。實踐證明，再生和清洗的溫度對于工型強堿性陰樹脂為35~50℃ II型為(35士3)℃在動態(tài)陰離子交換過程中，HSiO-3在樹脂層中的分布情況與其他陰離子有些不同。HSiO-3雖然主要是被下層的陰樹脂吸附著，但就是在上層的樹脂中也有少量吸附。同理，再生時，樹脂軟化水設備中硅(silicon)酸氫(Hydrogen)根被置換出來的速度也就比較緩慢。堿液不加熱要增加再生劑的耗量。

強型離子交換樹脂的再生濃度

如果再生液和樹脂的接觸時間不夠，可調(diào)整再生液的濃度和流速，必要時修改設備直徑。甚至在國外，這個問題也未很好的得到解決，一般熱水鍋爐使用二、三年后就會出現(xiàn)明顯的金屬腐蝕現(xiàn)象，發(fā)生紅水或泄露。 強型離子交換樹脂的再生濃度一般采用2%-5%，弱型離子交換樹脂容易再生，對再生效率(efficiency)影響不大，再生濃度一般采用0.5%一5%。樹脂再生后，再生系統(tǒng)管道與樹脂層內(nèi)殘存一定量的再生劑，需用水(或去離子水)進行清洗，這個過程也稱為“置換”清洗水量是系統(tǒng)、設備自用水量的一部分。置換過程中的需水量。