高純供氣系統價格多重優惠「艾明坷」

大宗特氣供氣系統介紹

大宗特氣供氣系統主要針對大規模量產的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產線（氣體種類包括NH3），發光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產線（氣體種類包括HCL）等行業。它們的投資規模巨大，采用1先進的工藝制程設備，用氣需求量大，對穩定和不間斷供應、純度控制和安全生產提出嚴格的要求。實驗室的氣體的排放是非常重要的，如果說實驗室氣體管道設計不合理，工作人員就容易出事，甚至嚴重的就會有生命危險。

艾明坷科技有限公司主營手套箱，如需了解更多詳情,歡迎與我們交流!

試驗室集中供氣系統的特點

1、特點：試驗室要求使用載氣流量恒定、氣體純度高，為試驗室選用的分析設備提供量值和壓力穩定的氣體。

2、經濟性：建一個集中的氣瓶間可以節省有限的試驗室空間，更換氣瓶時不需要切斷氣體，保證氣體的連續供應。使用者只需管理較少的氣瓶，支付較少的氣瓶租金，因為使用同一氣體的所有使用點來自于同一個氣源。此種供應方式終會減少運輸費用，減少退還給氣體公司的空瓶中的余氣量，以及良好的氣瓶管理。實驗室氣體管道設計要求了解實驗室設計的都知道：實驗室的任何的設計都是有規格要求的，出了這個要求的范圍那么實驗室的設計就有漏洞，就不合格，就容易發生事故。

3、使用率：集中管道供應系統可以將氣體出口放置在使用點處，這樣的話可以更合理的設計工作場所。

4、安全性：保證其儲存和使用的安全性。保障分析測試人員在實驗中免受有毒有害氣體的侵害。

本信息由艾明坷為您提供，如果您想了解更多產品信息，您可撥打圖片上的電話咨詢，艾明坷竭誠為您服務！

高純氣體的輸送管路系統

隨著微電子工業的發展，超大規模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導體制造工藝中的氣體品質相應越來越高，對氣體中雜質和露1點要求極為嚴格，需要達到ppb、ppt級，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對高純氣體的輸送管路系統提出了非常高的要求 。系統采用一拖一、一拖多、多拖一和多拖多的管道式輸氣方式，在一拖多時能夠實現分段控制和在多拖一和多拖多時能夠實現切換控制。