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    NR7 6000P光刻膠廠家產品介紹

    發布時間:2020-07-28 20:08  

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    光刻膠趨勢

    半導體光刻膠領域全球市場規模趨于穩定, 2017年全球市場約13.5億美元;國內市場約20.2億元,近5年復合增速達12%。受全球半導體市場復蘇和國內承接產業轉移,預計全球光刻膠市場將保持穩定增速,國內市占率穩步抬升。

    光刻膠生產、檢測、評價的設備價格昂貴,需要一定前期資本投入;光刻膠企業通常運營成本較高,下游廠商認證采購時間較長,為在設備、研發和技術服務上取得競爭優勢,需要足夠的中后期資金支持。企業持續發展也需投入較大的資金,光刻膠行業在資金上存在較高的壁壘,國外光刻膠廠商相對于國內廠商,其公司規模更大,具有資金和技術優勢。一般情況下,一個芯片在制造過程中需要進行10~50道光刻過程,由于基板不同、分辨率要求不同、蝕刻方式不同等,不同的光刻過程對光刻膠的具體要求也不一樣,即使類似的光刻過程,不同的廠商也會有不同的要求。

    總體上,光刻膠行業得到國家層面上的政策支持。《國家集成電路產業發展推進綱要》,提出“研發光刻機、刻蝕機、離子注入機等關鍵設備,開發光刻膠、大尺英寸硅片等關鍵材料”;全球市場目前,光刻膠單一產品市場規模與海外巨頭公司營收規模相比較小,光刻膠僅為大型材料廠商的子業務。國家重點支持的高新技術領域(2015)中提到“高分辨率光刻膠及配套化學品作為精細化學品重要組成部分,是重點發展的新材料技術”;光刻技術(包括光刻膠)是《中國制造 2025》重點領域。


    光刻膠國內研發現狀

    “造成與國際水平差距的原因很多。過去由于我國在開始規劃發展集成電路產業上,布局不合理、不完整,特別是生產加工環節的投資,而忽視了重要的基礎材料、裝備與應用研究。就拿在國際上具有一定競爭實力的京東方來說,目前已建立17個面板顯示生產基地,其中,有16個已經投產。目前,整個產業是中間加工環節強,前后兩端弱,核心技術至今被TOK、JSR、住友化學、信越化學等日本企業所壟斷。

    光刻膠的主要技術指標有解析度、顯影時間、異物數量、附著力、阻抗等。每一項技術指標都很重要,必須全部指標達到才能使用。因此,國外企業在配方、生產工藝技術等方面,對中國長期保密。中國的研發技術有待進一步發展



    NR9-3000PY

    11.請教~有沒有同時可以滿足RIE

    process 和Lift-off

    process的光阻,謝謝!

    A 我們推薦使用Futurrex

    NR1-300PY來滿足以上工藝的需求。

    12.Futurre光刻膠里,有比較容易去除的負光阻嗎?

    A NR9-系列很容易去除,可以滿足去膠需要。

    13.我們目前用干膜做窄板,解析度不夠,希望找到好的替代光阻?

    A NR9-8000因為有很高的AR比例,適合取代,在凸塊的應用上也有很大的好處。

    14.傳統的Color

    filter 制程,每個顏色的烘烤時間要2-3個小時,有沒有更快的方法制作Coior

    filter?

    A 用于Silylation制程------烘烤時間只需要2分鐘,同時光阻不需要Reflow, 顏色也不會老化改變,只需要在Filter上面加熱溶解PR1-2000S光阻,Microlenses就能形成!

    15.請問有專門為平坦化提供材料的公司嗎?

    A 美國Futurrex公司,專門生產應用化學品的,可以為平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是為平坦化用途設計,臺灣企業用的比較多。

    16.我需要一種可用于鋼板印刷的方式來涂布PROTECTIVE

    COATING,那種適合??

    A 推薦美國Futurrex,PC4-10000。

    17.臘是用來固定芯片的,但很難清洗干凈,哪里有可以替代的產品介紹下,謝謝?

    A 我們公司是使用Futurrex

    PC3-6000,可以替代的,而且去除比較容易,你可以試用下。

    18.請問有沒有100微米厚襯底為鍍鎳硅并可用與MEMS應用的光刻膠嗎?

    A NR4-8000P可以做到140微米的厚度,并在鍍鎳的襯底上不會出現難去膠的問題,如果是其他非鍍鎳襯底NR9-8000P是適合的選擇。

    19.誰有用在光波導圖案的光刻膠?是否可以形成角度為30度的側壁?

    A 你必須實現通過逐步透光來實現掩膜圖案棱的印刷,NR4-8000P是專門為光波導圖案應用進行設計的產品。


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