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脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕（pulsed laser ablation，PLA），是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。

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脈沖激光沉積簡介

隨著現代科學和技術的發展，薄膜科學已成為近年來迅速發展的學科領域之一，是凝聚態物理學和材料科學的一個重要研究領域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面，它不僅具有豐富的物理內涵，而且在微電子、光電子、超導材料等領域具有十分廣泛的應用。長期以來，人們發明了多種制膜技術和方法：真空蒸發沉積、離子束濺射、磁控濺射沉積、分子束外延、金屬有機化學氣相沉積、溶膠- 凝膠法等。上述方法各有特點，并在一些領域得到應用。但由于其各有局限性，仍然不能滿足薄膜研究的發展及多種薄膜制備的需要。想要了解更多沈陽鵬程真空技術有限責任公司的相關信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話。隨著激光技術和設備的發展，特別是高功率脈沖激光技術的發展，脈沖激光沉積（PLD）技術的特點逐漸被人們認識和接受

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PLD 主要選件

離子輔助沉積 (IBAD)系統介紹

離子輔助沉積已經成為在無規取向的基片或無定形基片上沉積雙軸結構薄膜的一種重要技術。Neocera 開發了離子輔助的PLD 系統，該系統將PLD 在沉積復雜材料方面的優勢與IBAD 能力結合在一起。

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脈沖激光沉積的原理

脈沖激光沉積原理：在真空環境下利用脈沖激光對靶材表面進行轟擊，利用激光產生的局域熱量將靶材物質轟擊出來，再沉積在不同的襯底上，從而形成薄膜。

脈沖激光沉積技術適合做的薄膜包括各種多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金屬薄膜，磁性材料等。