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為了進行化學(xué)拋光，必須使零件表面的凸部比凹部優(yōu)先溶解，因此應(yīng)將化學(xué)拋光的作用分為兩個階段來認識。一階段是化學(xué)拋光時金屬表面現(xiàn)象的幾何凸凹的整平，去除較粗糙的表面不平度，獲得平均為數(shù)微米到數(shù)十微米的光潔度；第二階段是晶界附近的結(jié)晶不完整部分的平滑化，去除微小的不平，在0.1～0.01μm，相當(dāng)于光波長的范圍。可將階段稱為宏觀拋光或平滑化，把第二階段稱為微觀拋光或光澤化。

操作簡便、快速，無需儀器。拋光后試樣表面無變形層，可拋光經(jīng)鑲嵌后的試樣，也可同時拋光試樣的縱、橫斷面。化學(xué)拋光時兼有化學(xué)侵蝕作用，因此多數(shù)情況下能同時顯示組織，拋光結(jié)束之后可以觀察組織，不需再做侵蝕顯示。

一般認為，在電化學(xué)拋光時，金屬制品表面同時處于兩種狀態(tài)之下：微觀凸起處的金屬表面處于活化狀態(tài)，該處的溶解速度大;微觀凹處表面處于鈍化狀態(tài)，該處的金屬溶解速度小，這樣，經(jīng)電化學(xué)拋光處理一段時間后，制品表面的微凸起處便被整平，出現(xiàn)光亮的外觀。

化學(xué)拋光的應(yīng)用范圍也很廣泛：通常可以根據(jù)金屬材質(zhì)及性能的不同，有鋼鐵化學(xué)拋光處理工藝，不銹鋼化學(xué)拋光處理工藝，銅及銅合金化學(xué)拋光處理工藝，鋁及鋁合金化學(xué)拋光處理工藝，化學(xué)拋光處理工藝以及鎳及鎳合金化學(xué)拋光處理工藝。這些金屬的化學(xué)拋光的基本原理都是一樣的。

       化學(xué)拋光是靠化學(xué)拋光液對金屬表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、批峰、毛刺，浸蝕整平的一種完全的化學(xué)處理工藝方法。不銹鋼化學(xué)拋光廠家