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公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

尺寸漲縮原因分析

膠片在光繪前沒有經過預置

由于膠片制造時無法預先控制膠片中的濕度與每個生產車間的濕度一致，因此使用之前應先使其與工作環境達到平衡的狀況。建議預置時間為12小時，預置時必須打開膠片的內包裝，使其與外界的空氣充分接觸。

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。

烤版時還要注意：①烤版箱內的紅外燈管一定要橫向排列，如縱向排列，往往導致印版瓦楞狀變形而影響使用。②烤版膠濃度要合適，如烤版膠太稠，烤版效果和上墨效果也不會令人滿意；如烤版膠太稀，烤出的版容易上臟。③烤版溫度不能過高，溫度過高也會導致鋁版基韌化和發軟，樹脂層焦化，影響耐印力。烤版時間太長易導致印版上臟，烤版時間太短達不到烤版的效果。④一般情況下，陽圖PS版顯影液(原液)的顯影能力為10m2/L。看上去制版工藝不是太復雜，但要想制作出合格的印版，確實需要操作人員用心曬版，用心加工印版。

掩模板是根據放大了的原圖制備的帶有透明窗口的模板。例如，可以用平整的玻璃板，涂覆上金屬鉻薄膜，通過類似照相制版的方法制備而成。由于下游應用領域廠商自建光刻掩膜版生產線的投入產出比很低，且光刻掩膜版行業具有一定的技術壁壘，所以光刻掩膜版都是由專業的生產商進行生產。具有微納圖形結構的掩模板通常使用電子束光刻機直接制備，其制作過程就是典型的光刻工藝過程，包括金屬各層沉積、涂膠、電子束光刻、顯影、鉻層腐蝕及去膠等過程。