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    NR9 3000P光刻膠報價按需定制「賽米萊德」

    發布時間:2021-10-20 09:11  

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    光刻膠的應用

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    模擬半導體(Analog Semiconductors)發光二極管(Light-Emitting Diodes LEDs)微機電系統(Microelectromechanical Systems MEMS)太陽能光伏(Solar Photovoltaics PV)微流道和生物芯片(Microfluidics & Biochips)光電子器件/光子器件(Optoelectronics/Photonics)封裝(Packaging)



    硅片模具加工如何選擇光刻膠呢?

    注意事項:

    ①若腐蝕液為堿性,則不宜用正性光刻膠;

    ②看光刻機型式,若是投影方式,用常規負膠時氮氣環境可能會有些問題

    ③負性膠價格成本低,正性膠較貴;

    ④工藝方面:負性膠能很好地獲得單根線,而正性膠可獲得孤立的洞和槽;

    ⑤健康方面:負性膠為有機溶液處理,不利于環境;正性膠屬于水溶液,對健康、環境無害。

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    光刻膠分類

    根據化學反應機理和顯影原理的不同,光刻膠可以分為負性膠和正性膠。對某些溶劑可溶,但經曝光后形成不可溶物質的是負性膠;反之,對某些溶劑不可溶,經曝光后變成可溶的為正性膠。

    從需求端來看,光刻膠可分為半導體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠。其中,半導體光刻膠的技術壁壘較高。

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