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真空鍍膜機(jī)冷卻配套冷水機(jī)的作用

真空鍍膜機(jī)冷卻配套冷水機(jī)的作用是維持真空鍍膜機(jī)器的溫度，使其工作達(dá)到、率控制溫度的目的。以前在沒冷水機(jī)的情況下，自然水和水塔散熱都不可避免地受到自然氣溫的影響，而且此方式控制是極不穩(wěn)定的。因此，可以說冷水機(jī)是真空鍍膜設(shè)備中非常重要的配套冷卻設(shè)備，因?yàn)槔渌畽C(jī)直接關(guān)系到真空鍍膜機(jī)工作效果的好壞。

真空鍍膜機(jī)為什么要配套冷水機(jī)？

這個要從真空鍍膜工作原理查看：膜料在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜料分子會產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮，如果真空度不高結(jié)晶體就會失去光澤，結(jié)合力也很差。

冷水機(jī)設(shè)有制冷系統(tǒng)和冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，水溫在5℃～30℃范圍內(nèi)調(diào)節(jié)控制，可以達(dá)到、率控制溫度的目的。其冷卻原理是：制冷系統(tǒng)將水冷卻，再由水泵將低溫冷卻水送入真空鍍膜機(jī)進(jìn)行降溫，冷水機(jī)冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱，達(dá)到冷卻的作用。

真空鍍膜機(jī)的自控檢測裝置

真空鍍膜機(jī)有一個自控檢測裝置，它可以被動的進(jìn)行動態(tài)防護(hù)。在實(shí)際運(yùn)用過程中，為了研究和改進(jìn)檢測裝置，考慮到溫度影響過濾材料的吸附和吸收性能，會將裝置置于空調(diào)房間。濕度一方面影響過濾材料吸濕，又會對試劑吸收性能產(chǎn)生影響，要求嚴(yán)格控制。根據(jù)催化劑測定管和比速來確定，流量的大小與動態(tài)防護(hù)時(shí)間成反比，試劑濃度與動態(tài)防護(hù)時(shí)間也成反比，其波動還會影響到終點(diǎn)確定。

為了滿足要求不時(shí)的也會做出各種改進(jìn)，主要方面有用E E29型溫濕度傳感器代替了干濕球濕度計(jì)，通過控制干濕兩路流量比，代替了原來的玻璃調(diào)濕槽，采用噴射泵技術(shù)，在較低的試劑壓力下，實(shí)現(xiàn)了長時(shí)間試劑均勻混合，濃度穩(wěn)定。

真空鍍膜設(shè)備的環(huán)境要求

由于真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作，因此該設(shè)備要滿足真空對環(huán)境的要求。

我國制定的各種真空鍍膜設(shè)備的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)（包括真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件、真空離子鍍膜設(shè)備、真空濺射鍍膜設(shè)備、真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備）都對環(huán)境要求作了明確規(guī)定。只有滿足了真空鍍膜設(shè)備對環(huán)境的要求，才能使該設(shè)備正常運(yùn)轉(zhuǎn)，加上正確的鍍膜工藝，方能生產(chǎn)出合格的鍍膜產(chǎn)品。

真空鍍膜機(jī)設(shè)計(jì)安全

安全保護(hù)系統(tǒng)對任何儀器設(shè)備都是很重要的。為保證整機(jī)設(shè)備和人身安全，對于用戶來說，我們設(shè)計(jì)分配了2級的安全級別，即管理者和操作者。管理者可以修改工藝和參數(shù)，而操作者只能執(zhí)行程序，查閱程序參數(shù)。

不論是工作在自動工作方式，還是手動維護(hù)方式，輸出量的互鎖保護(hù)都是非常重要的。為防止誤操作，我們設(shè)計(jì)了互鎖電路和程序互鎖的2級互鎖。條件不充分按錯鍵時(shí)，系統(tǒng)給予提示不執(zhí)行錯誤命令。系統(tǒng)中還增添了某些重要參數(shù)的安全區(qū)域報(bào)警或警告。通過紅黃綠三色警示燈和訊響器的控制動作，分別實(shí)現(xiàn)各種情況的警示。如工藝過程中工藝氣體充氣流量稍低于設(shè)定流量時(shí)，給予黃燈訊響警告仍然繼續(xù)工作，壓力恢復(fù)后流量轉(zhuǎn)為正常，綠色指示燈亮。但當(dāng)流量低于設(shè)定的下限時(shí)，紅燈點(diǎn)亮報(bào)警，停止工藝進(jìn)程

鍍膜機(jī)通過用戶的使用和生產(chǎn)，證明整個程序化自動控制系統(tǒng)滿足了用戶的使用要求。

控制系統(tǒng)界面清晰友善、編程簡單、操作方便、數(shù)據(jù)查閱迅速、系統(tǒng)穩(wěn)定可靠、工藝重復(fù)性好，光學(xué)減反射膜層的透射率等性能指標(biāo)完全符合航天GaAs太陽電池的要求，并為今后提高GaAs太陽電池的減反射膜層性能提供了良好的平臺。

盡管如此，電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的發(fā)展在國內(nèi)已有幾十年，技術(shù)雖不斷提高，但比較國外先進(jìn)技術(shù)還有一定差距。本文對電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)所應(yīng)用的控制技術(shù)國際上雖然不是很新的技術(shù)，但此方面控制系統(tǒng)的應(yīng)用，在國內(nèi)生產(chǎn)的真空應(yīng)用設(shè)備上還很少，且要能長期工作穩(wěn)定可靠，還有很大的發(fā)展空間，這是和國內(nèi)真空行業(yè)在真空應(yīng)用設(shè)備上的整體發(fā)展水平相關(guān)的。