磁控濺射鍍膜機公司值得信賴「沈陽鵬程」

小型自動磁控濺射儀

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業磁控濺射產品供應商，我們為您帶來以下信息。

1. 濺射室極限真空度：≤6.6×10-6 Pa

2. 系統真空檢漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S

3. 系統從大氣開始抽氣：濺射室30分鐘可達到6.6×10-4 Pa；

4. 系統停泵關機12小時后真空度：≤5Pa

5. 濺射真空室1套，立式上開蓋結構，尺寸不小于Ф300mm×300mm，全不銹鋼結構，弧焊接，表面進行電化學拋光，內含防污內襯，可內烘烤到100～150℃，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封，腔體內有照明系統

6. 磁控濺射系統 3套， 提供3塊測試靶材。鍍膜不均勻度≤5%

7. 旋轉基片臺 1套，樣品臺可放置不小于100mm樣品1片，具有連續旋轉功能，旋轉0—30轉/分連續可調。基片加熱溫度：室溫—500°C連續可調，由熱電偶閉環反饋控制，加熱電源配備控溫表，控溫方式為PID自動控溫及數字顯示

8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套

9. 工作氣路1套，包含：100SCCM、20SCCM質量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路； DN16充氣閥、管路、接頭等2路；

10. 抽氣機組及閥門、管道 1套，包含1臺進口復合分子泵及變頻控制電源（680L/s ，德國普發Hipace700分子泵）；1臺機械泵（4L/S） ，1臺DN40氣動截止閥，機械泵與真空室之間的旁抽管路1套，CC150氣動閘板閥1臺（用于復合分子泵與真空室隔離），節流閥1臺，DN40旁抽氣閥1臺，壓差式充氣閥1臺；方便性：設備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調試簡單，既保證了設備使用方便又保證了設備的整潔。管道采用不銹鋼三通及波紋管，

11. 安裝機臺架組件 1套，由方鋼型材焊接成，快卸圍板表面噴塑處理，機臺表面用不銹鋼蒙皮裝飾，四只腳輪，可固定，可移動。

什么是磁控濺射？

磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

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磁控濺射介紹

以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供，今天我們來分享磁控濺射產品的相關內容，希望對同行業的朋友有所幫助！

用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體（如陶瓷），則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容，這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。1臺機械泵（4L/S），1臺DN40氣動截止閥，機械泵與真空室之間的旁抽管路1套，CC150氣動閘板閥1臺（用于復合分子泵與真空室隔離），節流閥1臺，DN40旁抽氣閥1臺，壓差式充氣閥1臺。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。

濺射鍍膜的特點

濺射就是從靶表面撞擊出原子物質的過程。濺射產生的原子或分子沉積到基體(零件)表面的過程就是濺射鍍膜。

濺射鍍膜與真空鍍膜相比,有如下特點:

1.任何物質都可以濺射, 尤其是高熔點金屬、低蒸氣壓元素和化合物;

2.濺射薄膜與襯底的附著性好;

3.濺射鍍膜的密度高,孔少,膜層純度高;

4.膜層厚度可控性和重復性好。

以上就是為大家介紹的全部內容，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多磁控濺射產品的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯系我們。