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    東莞曝光顯影廠誠信企業,東莞利成感光五金

    發布時間:2020-11-08 03:24  

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    可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版,也廣泛地被使用于減輕重量儀器鑲板,銘牌及傳統加工法難以加工之薄形工件等的加工;經過不斷改良和工藝設備發展,亦可以用于航空、機械、化學工業中電子薄片零件精密蝕刻產品的加工,特別在半導體制程上,蝕刻更是不可或缺的技術。1、蝕刻:利用蝕刻液與bai銅層反應,蝕去線路板上不需要du的銅,得到zhi所要求的線路。

    2、曝光dao:經光源作用將原始底片上的圖像轉移到感光底板(即PCB)上。

    3、顯影:通過堿液作用,將未發生光聚合反應之感光材料部分沖掉。



    倒出顯影液,用清水沖洗 30 秒,然后注入柯達F-5酸性定影液,攪拌 10 分鐘,完成定影;倒出定影液,取出沖洗加工好的膠卷,用清水沖洗干凈,涼干。正片成像;了解放大機的基本結構及使用方法;選擇拍攝的底片,將底片放入底片夾內,乳劑面向下;開啟曝光定時器電源開關,按下定時器調焦按鈕,在放大機上進行調焦,待影像清晰后,調焦完畢,關閉調焦按鈕;


    在曝光機橡皮膜接觸菲林底片一側粘上一塊絨布,絨毛朝菲林底片,絨布的背面繞上幾圈銅絲,銅絲與橡皮膜的接地線相連,防止絨布產生靜電。絨布和橡皮膜之間不好粘貼,要選用合適的膠水,但不宜使用含有有機溶液的膠水,否則容易損壞橡皮膜。此法生產效率較高,但同樣不能杜絕偏移。

    以上幾種方法中,實用的是前面一種。雖然效率低些,但相對于因偏移造成返工甚至使PCB報廢而言還是值得采用的。





    干膜顯影性不良,超期使用。上述已講過光致抗蝕干膜,其結構有三部分構成:聚酯薄膜、光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護膜。在紫外光照射下,干膜與銅箔板表面之間產生良好的粘結力,起到抗電鍍和抗蝕刻的作用。圖形電鍍過程中,引起的滲鍍的原因分析如下:圖形轉移是制造高密度多層板的關鍵控制點bai,也是技術難點,其質量的優劣直接影響多層板的合格率。

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