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真空鍍鈦是指在真空的環境下，采用弧光放電，把陰極鈦靶作為蒸發源，通過鈦靶與陽極機體之間的弧光放電，使鈦靶材蒸發并形成離子體，產生的離子體高速向產品上運動，在產品表面進行沉積，形成了鈦膜層。機械拋光技術對拋光工具要求甚高，需具備高質量的油石、砂紙和鉆石研磨膏等輔助品。要想鍍出堅固的鈦層，首先要有好的設備。因為在鍍膜過程中，真空系統必需要工作穩定，爐體保壓要好，如果在鍍膜過程中有雜氣摻入，顏色就會不理想，嚴重的還會脫鈦。

蒸發源接陽極，工件接陰極，當通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發源與工件之間產生輝光放電。玫瑰金、鈦金、黑鈦、香檳金等顏色，都是通過電鍍鍍鈦的方式加工而成的。由于真空罩內充有惰性氣，在放電電場作用下部分氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區。帶正電荷的離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發源交流電源，蒸發料粒子熔化蒸發，進入輝光放電區并被電離。

此外，多弧鍍涂層顏色較為穩定，尤其是在做 TiN 涂層時，每一批次均容易得到相同穩定的金黃色，令磁控濺射法望塵莫及。6、由于不銹鋼表面加工工序的復雜性，每一張板材的每一道工序是不可能控制到一致的，這就直接影響到終成品的表面色澤，這也是目前該行業技術上的一個瓶頸。多弧鍍的不足之處是，在用傳統的 DC 電源做低溫涂層條件下，當涂層厚度達到0.3μm 時，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個不足之處是，由于金屬是熔后蒸發，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差。

磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎上發展起來的一種新型濺射鍍膜法,由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點,因此獲得了迅速的發展和廣泛的應用.

1. 磁控濺射:

離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現象稱為濺射.濺射產生的原子沉積在基體(工件)表面即實現濺射鍍膜.

磁控濺射的基本原理:

磁控濺射是在濺射區加了與電場方向垂直的磁場,處于正交電場區E和磁場B中的電子的運動方程,