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大家在使用鍍鎳砂時一個主要困擾是：砂的鍍覆活性不穩定，由此導致上砂質量的波動。不穩定的一個主要原因是砂的退鍍，那為什么鍍鎳砂容易退鍍呢？可能這篇文章能給你一些答案。

鍍鈦砂和鍍鎢砂，都屬于高耐腐蝕砂，鍍層穩定。比如，日本使用鍍鈦砂，耐久性2-3個月，有利于產品質量穩定和產線的自動化。

鍍W砂，W與金剛石界面形成W2C化學鍵合，而且W-Ni相容性優異，有利于砂與基線鍍層的結合，所以鍍W砂也是很有潛力的線鋸原材料。

射頻濺射

采用射頻電源代替直流電源，在靶和襯底間施加高頻電壓，濺射時，靶極會產生自偏壓效應（即靶極會自動處于負電位狀態），使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。

優點可以濺射所有材料，包括導體和絕緣體濺射可大規模生產

磁控濺射

磁控濺射通過在靶陰極表面引入正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面，成螺旋狀運行來增強電離效率，增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時配備直流和射頻兩種。

PVD (Physical Vapor Deition) 即物理氣相沉積，分為：真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。因為在鍍膜過程中，真空系統必需要工作穩定，爐體保壓要好，如果在鍍膜過程中有雜氣摻入，顏色就會不理想，嚴重的還會脫鈦。我們通常所說的PVD鍍膜 ，指的就是真空離子鍍膜；通常說的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發鍍膜和真空濺射鍍。真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發，然后沉積在基體表面上，蒸發的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術。

離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優越得多。除油—去污—流水沖洗—去離子水沖洗—脫水過清洗線后將工件掛到PVD治具上，放入烤箱烘烤干燥薄膜的制備方法很多，主要有氣相法和液相法，其中氣相法又分為物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）兩大類。因此，這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規定的航線飛抵其活動半徑范圍內的任何地方。