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離子鍍是在真空蒸發鍍和濺射鍍膜的基礎上發展起來的一種鍍膜技術，將各種氣體放電方式引入到氣相沉積領域，整個氣相沉積過程都是在等離子體中進行的。　　

全SUS304不銹鋼機身，隱藏式雙層冷卻水套設計　　

合理配備多套全新研制的離子弧源，有效保障弧源濺射的穩定性與均勻性　　

采用多路進氣系統，精準控制氣體流量，滿足您多種化合物膜層需求。　　

裝載大功率脈沖偏壓電源，極大提高電粒子能量，從而獲得的膜層結合力和光潔度　　

采用創新工藝制造，精益求精，通過歐盟CE和ISO質量管理體系認證；

1、真空鍍膜工藝在信息存儲范疇中的運用薄膜資料作為信息記載于存儲介質，有其得天獨厚的優勢：因為薄膜很薄能夠疏忽渦流損耗；磁化回轉極為敏捷；與膜面平行的雙穩態狀況簡單保持等。為了更精細地記載與存儲信息，必定要選用鍍膜技能。

2、真空鍍膜工藝在傳感器方面的運用在傳感器中，多選用那些電氣性質相關于物理量、化學量及其變化來說，極為敏感的半導體資料。此外，其中大多數運用的是半導體的外表、界面的性質，需求盡量增大其面積，且能工業化、低報價制造、因而選用薄膜的狀況許多。

磁控濺射：在真空環境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同，導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。

離子束DLC：碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧涂層的離子束源采用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好；離子電流更大，使得DLC膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在于可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個埃，并可將工藝過程中的顆料污染所帶來的缺陷降至。

在真空度較高的環境下，通過加熱或高能粒子轟擊的方法使源材料以原子、分子或離子的形式逸出沉積物粒子，并且逸出的粒子在基片上沉積形成薄膜的技術。.PVD大家族里主要有三位成員：真空蒸發沉積技術（蒸鍍）；濺射沉積技術；離化PVD技術。

蒸鍍是在真空環境下，以各種加熱方式賦予待蒸發源材料以熱量，使源材料物質獲得所需的蒸汽壓而實現蒸發，所發射的氣相蒸發物質在具有適當溫度的基片上不斷沉積而形成薄膜的沉積技術。