脈沖激光沉積設備公司信息推薦

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發布時間：2020-07-15 11:39

PLD450型脈沖激光鍍膜介紹

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業脈沖激光沉積供應商，我們為您帶來以下信息。

主要用途：　　

用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。適用于各大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。　　

系統組成:　　

主要由濺射真空室、旋轉靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。　　

脈沖激光沉積設備介紹

以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內容，沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產脈沖激光沉積，歡迎新老客戶蒞臨。

是比較理想的薄膜與涂層合成設備。可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關系統配件，例如基片加熱裝置、原位監測工具。PLD還有一個很大的優點，即能夠通入較高的氧分壓(1~50mTorr)，特別適于氧化物的生長。此外，BlueWave還為您提供標準的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。

脈沖激光沉積系統的特點有哪些？

? 超高真空不銹鋼腔體

? 可集成熱蒸發源或濺射源

? 可旋轉的耐氧化基片加熱臺

? 流量計或針閥準確控制氣體流量

? 標準真空計? 干泵與分子泵

? 可選配不銹鋼快速進樣室

? 可選配基片-靶材距離自動控制系統

? 是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的較佳設備

以上就是為大家介紹的全部內容，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多脈沖激光沉積的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯系我們。

脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積系統具有獨特的優越性。它可以把激光燒蝕技術和我們所擁有的其他沉積技術（如RF源）集成于一臺設備上。可以生長各種可能的材料。