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    聚焦離子束刻蝕機廠家服務為先“本信息長期有效”

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    發布時間:2020-11-17 10:11  







    離子束刻蝕

    離子束刻蝕也稱為離子銑,是指當定向高能離子向固體靶撞擊時,能量從入射離子轉移到固體表面原子上,如果固體表面原子間結合能低于入射離子能量時,固體表面原子就會被移開或從表面上被除掉。通常離子束刻蝕所用的離子來自惰性氣體。離子束較小直徑約10nm,離子束刻蝕的結構較小可能不會小于10nm。目前聚焦離子束刻蝕的束斑可達100nm以下,少的達到10nm,獲得較小線寬12nm的加工結果。相比電子與固體相互作用,離子在固體中的散射效應較小,并能以較快的直寫速度進行小于50nm的刻蝕,故而聚焦離子束刻蝕是納米加工的一種理想方法。此外聚焦離子束技術的另一優點是在計算機控制下的無掩膜注入,甚至無顯影刻蝕,直接制造各種納米器件結構。但是,在離子束加工過程中,損傷問題比較突出,且離子束加工精度還不容易控制,控制精度也不夠高。

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    離子束刻蝕機的特點

    刻蝕過程是純物理濺射,可以刻蝕任何固體材料;平行離子束刻蝕,高各向異性;無鉆蝕;精度高,分辨率<0.01um.

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    離子束刻蝕機

    離子束刻蝕是通過物理濺射功能進行加工的離子銑。國內應用廣泛的雙柵考夫曼刻蝕機通常由屏柵和加速柵組成離子光學系統,其工作臺可以方便地調整傾角,使碲鎘gong基片法線與離子束的入射方向成θ角,并繞自身的法線旋轉,如圖1所示。評價溝槽輪廓主要的參數有溝槽的開口寬度We、溝槽的刻蝕深度H、臺面的坡度角φ和溝槽底部的寬度Wb。我們常用的深寬比(Aspectratio)是指槽深H和槽開口寬度We的比值,本文中用R表示。深寬比是常用來作為衡量刻蝕工藝水平和刻蝕圖形好壞的評價參數。










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