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水冷銅電極介紹

水冷電纜電極是一種中空通水，用于大電流加熱設備的特種電纜，通常由電極（電纜頭）、導線、外護套管三部分組成。

普通水冷電纜電極使用銅管及銅排焊接而成，與設備連接不緊密；磁控靶磁控濺射靶是真空磁控濺射鍍膜的核心部件，它的重要作用主要表現在以下兩個方面(1)對于大面積表面的鍍膜，磁控濺射靶影響著膜層的均勻性與重復性。導線采用銅裸線絞制，彎曲半徑大；外護套管使用普通橡膠軟管，耐壓低；套管與電極采用普通卡箍緊固，密封性不好，易漏水。水冷電纜電極采用整體銅棒車、銑加工而成，表面做鈍化或鍍錫處理；導線使用鍍錫銅絞線或漆包線經數控繞線機編織而成，柔軟度高，彎曲半徑小；外護套管使用具有加強夾布層的合成橡膠管，耐壓高。套管與電極使用紫銅卡箍在專業設備上冷擠壓緊固，密封性好，不易漏水。

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靶材鍍膜前的清潔

在進行鍍膜前都必須將基片進行清潔,對于在線鍍膜來說,這是很小的事情,但對離線鍍膜來說卻相當重要,而且操作起來也比較困難，對于大面積的鍍膜來說,將玻璃基片完全清潔干凈是不可能的,因此,如何達到鍍膜所必須要求的潔凈程度就變得非常重要。要保持清潔程度足夠高,如果清潔程度不夠,膜層容易老化,甚至脫膜等現象。濺射靶材的種類濺射靶材的種類較多,即使相同材質的濺射靶材也有不同的規格。不同用途,不同加工工藝的膜層對清潔程度要求是不一樣的,對于目前我司生產的玻璃來說, Low-E玻璃要求的玻璃潔凈度不如熱反射玻璃高。目前要為鍍膜準備大面積的鍍膜玻璃基片，主要采用的是一 種濕式清潔技術,這種技術包括三部分:

1.松動玻璃表面的雜質

2.去除已經松動的、分離的雜質

3.干燥已經清潔的玻璃表面

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濺射靶材的作用是什么？

濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產生的離子 ,在真空中經過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。用于低蒸汽壓的元素和化合物材料薄膜沉積，例如Fe，Cr，Ni，Co，Au，Ge等材料，以及表面科學分析和磁性或氧化物薄膜沉積。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、記錄介質、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。