山西感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)供貨商常用指南“本信息長期有效”

感應(yīng)耦合等離子體刻蝕的原理

以下是創(chuàng)世威納為您一起分享的內(nèi)容，創(chuàng)世威納專業(yè)生產(chǎn)感應(yīng)耦合等離子體刻蝕，歡迎新老客戶蒞臨。

感應(yīng)耦合等離子體刻蝕法（Inductively Coupled Plasma Etch，簡稱ICPE）是化學(xué)過程和物理過程共同作用的結(jié)果。它的基本原理是在真空低氣壓下，ICP 射頻電源產(chǎn)生的射頻輸出到環(huán)形耦合線圈，以一定比例的混合刻蝕氣體經(jīng)耦合輝光放電，產(chǎn)生高密度的等離子體，在下電極的RF 射頻作用下，這些等離子體對基片表面進(jìn)行轟擊，基片圖形區(qū)域的半導(dǎo)體材料的化學(xué)鍵被打斷，與刻蝕氣體生成揮發(fā)性物質(zhì)，以氣體形式脫離基片，從真空管路被抽走。

感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)的結(jié)構(gòu)一

預(yù)真空室預(yù)真空室的作用是確保刻蝕腔內(nèi)維持在設(shè)定的真空度，不受外界環(huán)境（如：粉塵、水汽）的影響，將危險(xiǎn)性氣體與潔凈廠房隔離開來。它由蓋板、機(jī)械手、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、隔離門等組成。

以上就是為大家介紹的全部內(nèi)容，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多感應(yīng)耦合等離子體刻蝕的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。

感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)的原理

如果需要進(jìn)行刻蝕，和蝕刻后，除污，清除浮渣，表面處理，等離子體聚合，等離子體灰化，或任何其他的蝕刻應(yīng)用，我們能夠制造客戶完全信任的等離子處理系統(tǒng)，以滿足客戶的需要。我們既有常規(guī)的等離子體蝕刻系統(tǒng)，也有反應(yīng)性離子蝕刻系統(tǒng)，我們可以制造系列的產(chǎn)品，也可以為客戶定制特殊的系統(tǒng)。我們可以提供快速/高品質(zhì)的蝕刻，減輕等離子傷害，并提供的均勻性。

等離子體處理可應(yīng)用于所有的基材，甚至復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體活化、等離子體清洗，等離子體鍍膜也毫無問題。等離子體處理時(shí)的熱負(fù)荷及機(jī)械負(fù)荷都很低，因此，低壓等離子體也能處理敏感性材料。

想要了解更多創(chuàng)世威納的相關(guān)信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話！