金屬蒸發(fā)鍍膜機定做常用指南

ZF450型全自動熱蒸發(fā)鍍膜機

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)電阻器熱蒸發(fā)鍍膜供貨商，我們?yōu)槟峁┫铝行畔?nèi)容。

選用3～8組蒸發(fā)源可適配金屬材料、有機化合物蒸發(fā)。因其具有背景干擾低的特點，可用來進行納克(ng)級分析，故而成為業(yè)界定性定量分析的必選儀器。廣泛運用于高等院校材料、物理學(xué)、有機化學(xué)、電子器件、電力能源等有關(guān)課程及其科研單位制取高品質(zhì)作用塑料薄膜、蒸鍍電級等，非常合適OPV/鈣鈦礦/無機物太陽能薄膜充電電池、半導(dǎo)體材料、有機化學(xué)EL、OLED顯示信息科學(xué)研究與開發(fā)設(shè)計行業(yè)。

1.前開關(guān)門真空內(nèi)腔，便捷拿取基片、拆換蒸發(fā)舟、加上蒸發(fā)材料及其真空室的平時維護保養(yǎng)；

2.1200L/s分子泵做為主抽泵，真空限達到5×10-5Pa； 

另可選擇進口磁懸浮分子泵或是低溫泵做為主抽泵，真空限達到 3×10-6Pa；

3. 組水冷器蒸發(fā)電級，可長期平穩(wěn)工作中，適配金屬材料材料與有機化學(xué)材料的蒸發(fā)源設(shè)計方案，

源間有避免交叉式環(huán)境污染擋板；

4. 真空蒸發(fā)開關(guān)電源，恒流電源/恒輸出功率操縱。可保持一鍵啟動和終止的自動控制系統(tǒng)作用；

5.較大120mm基片/15～25mm ITO/FTO夾層玻璃25片，可訂制一體化高精密刻蝕掩膜板；

6.基片臺自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速比0～25rpm持續(xù)可調(diào)式；

7. 襯底可挑選加溫或水冷散熱，源基距較大350mm；

8. 選用進口膜厚監(jiān)控器儀在線監(jiān)控和操縱蒸發(fā)速度、膜厚；

9. 可堆積金屬材料（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬材料、化學(xué)物質(zhì)（MoO3, LiF等）

及有機化合物材料， 可擴展堆積單面膜、雙層膜及混和膜；

以上就是關(guān)于電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品的相關(guān)內(nèi)容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話或關(guān)注沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司！

300C有機無機聯(lián)合蒸發(fā)

主要用途： 　　

用于制備導(dǎo)電薄膜，半導(dǎo)體薄膜，鐵電薄膜，光學(xué)薄膜等。 　　

系統(tǒng)組成: 　　

該蒸鍍設(shè)計系統(tǒng)主要由真空抽氣及真空測量系統(tǒng)、真空室系統(tǒng)、工件架系統(tǒng)、蒸發(fā)源系統(tǒng)、膜厚測試系統(tǒng)、蒸發(fā)舟擋板系統(tǒng)、烘烤照明系統(tǒng)、水冷卻循環(huán)及報警系統(tǒng)、電控及控制系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)等設(shè)計。 　　

技術(shù)指標： 　　

極限真空度：≤6.7×10 Pa 　　

恢復(fù)真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 　　

系統(tǒng)漏率：6. 7×10-7Pa.L/S； 　　

真空室：Ф400 x400mm圓筒型真空室 ， 　　

蒸發(fā)源：1-4個，采用電阻蒸發(fā)舟、蒸發(fā)藍、絞絲、束源爐至下向上蒸發(fā)鍍膜。 　

蒸發(fā)溫度：加熱溫度：室溫～1800℃； 　　

蒸發(fā)舟在距中心100～160mm的圓周上；蒸發(fā)舟可上下升降，調(diào)節(jié)幅度0～150mm（樣品中心與坩堝距離150~300mm）； 　

工作架類型及尺寸：樣品托盤直徑Φ300mm，其上可放多個直徑20mm的小樣品；樣品托盤具有自轉(zhuǎn)功能，轉(zhuǎn)速在0～20 轉(zhuǎn)/分鐘，轉(zhuǎn)速可調(diào)；樣品托盤可擺角，角度在0～30度可調(diào)； 　　

烘烤溫度：400℃數(shù)顯自動熱偶控溫（高溫爐盤，數(shù)顯自動熱偶控溫可加熱到700℃） 　　

電阻蒸發(fā)源：電壓5V，10V，功率2.5KW，水冷電極1~4對 　　

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999?

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